三ツワフロンテック

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超音波減衰分光法

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  3. 粒子計測・測定(粒度分布)を分かりやすく解説!粒子径とは
  4. 超音波減衰分光法
  5. DT1202|三洋貿易株式会社

DT1202|三洋貿易株式会社

会社名 三洋貿易株式会社
製品名 DT1202
 
特徴 濃厚系を原液測定ニーズに!
測定原理 超音波減衰分光法
測定範囲 0.005~1000μm
※試料による
対応濃度 0.1~50Vol%
※試料による
対応粘度 20,000cp以下
測定時間 1-10分
測定セル 37-150mL
ゼータ電位

〇

pH滴定 〇
多検体  
その他  
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mitsuwa frontech corp.
〒530-0041 大阪市北区天神橋3-6-24
TEL.06-6351-6766 FAX.06-6351-9632
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© 2019-2025 mitsuwa frontech corp.

製品名 マスターサイザー3000 マスターサイザー3000E スプレーテック インシテック(乾式) インシテック(湿式) インシテック(スプレー)
 
特徴 幅広い粒子径・サンプルに
対応した、粒子径分布測定装置
粒度分布計のエントリーモデル 噴霧粒子および
スプレー液滴径測定
乾式プロセス用
リアルタイム測定器
湿式プロセス用
リアルタイム測定器
スプレー、エアロゾル
測定原理 Mie理論、Fraunhofer近似 Mie理論、Fraunhofer近似 MieおよびFraunhofer散乱 Mie 理論 Mie 理論 Mie 理論
測定範囲

0.01µm – 3500µm

0.1µm – 1000µm

レンズ(1): 0.1 – 900 µm
(Dv50: 0.5 – 600 µm
レンズ(2): 2 – 2000 µm
(Dv50: 5 – 1600 µm).

0.1µm – 2500µm

0.1µm – 2500µm

0.1µm – 2500µm
測定時間

10秒以内

10秒以内

 

 

 

 

測定セル

フローセル

〇:120mL(超音波)

〇:120mL(超音波)

フローセル対応可能

連続モニタリング用製品

連続モニタリング用製品

連続モニタリング用製品
大容量

〇:600mL(超音波)

〇:600mL(超音波)

 

 

 

 

バッチ式

〇

ご相談ください

ご相談ください

連続モニタリング用製品

連続モニタリング用製品

連続モニタリング用製品
高濃度

〇

ご相談ください

ご相談ください

-

-

-
高粘度

〇

ご相談ください

ご相談ください

-

-

-
少量

〇
バッチ式:6-7mL
フロー式:50mL~

〇
バッチ式:6-7mL
フロー式:50mL~

 

 

 

 
画像

〇

-

-

-

-

-
乾式

〇
2種類

〇
2種類

 

標準

 

 
ビーカー

〇
250/600/1,000mL対応(超音波)

〇
250/600/1,000mL対応(超音波)

 

 

 

 
温調

 

 

 

 

 

 
気中

 

 

標準

 

 

標準
その他

 

 

 

 

標準:湿式

 

多検体

〇

-

-

連続モニタリング用製品

連続モニタリング用製品

連続モニタリング用製品

その他

 

 

 

 

 

 
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PTA法

製品名 ZC-3000
製品画像
特徴

希釈溶液の粒子一つ一つを顕微鏡で捉え、
泳動速度からゼータ電位を算出します

測定原理 ゼータ電位:顕微鏡電気泳動法
粒度分布:ブラウン運動解析法
測定時間 任意:20秒~
(粒子カウント数、または時間で設定)
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超音波減衰分光法

製品名 AcoustoSizerⅡx
製品画像
特徴 ゼータ電位と粒度分布を原液のままで
攪拌しながら測定可能です
測定原理 ゼータ電位:電気音響法
粒度分布:超音波減衰法
測定対象粒子径

ゼータ電位:0.5nm~100μm
粒度分布:10nm~100μm

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動的光散乱法

製品名 Litesizer
製品画像
特徴 3つの測定角度
透過率、屈折率(500型)の測定機能
測定原理 動的光散乱法 (DLS)

測定範囲

0.3 nm~10 µm* (直径)
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レーザー回折式

製品名 PSA1190 PSA1090 PSA990
製品画像
特徴 湿式と乾式標準(切替えはワンクリック)
光軸調整不要
測定範囲 湿式:0.04~2500 μm
乾式:0.1~2500 μm
湿式:0.04-500μm
乾式:0.1~500 μm
湿式:0.2~500 μm
乾式:0.3~500 μm
測定時間 <1分   <1分
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遠心沈降式

製品名 Partica CENTRIFUGE
製品画像
測定原理 遠心沈降法
測定範囲 10 nm ~ 40 μm
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PTA法

製品名 ViewSizer3000
製品画像
特徴

キュベットセル式
(メンテナンス、再現性良好)

測定原理 Particle Tracking Analysis(PTA)法
測定波長 3波長光源
測定範囲 10nm~15μm(直径)
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動的光散乱法

製品名 nanoPartica SZ-100V2
製品画像
特徴

業界初の高出力グリーンレーザや世界最速の
コリレータを搭載し高精度測定を実現!

多様化するサンプルに対応するゲル解析システムも搭載。

HORIBA独自開発のキュービックセルで一歩先のゼータ電位測定!

測定範囲

0.3 nm ~ 10 μm (直径)
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レーザー回折式

製品名 Partica LA-960V2 Partica mini LA-350
製品画像
特徴

精度保証(世界唯一)のベストセラーモデル!

0.01μm~5000μmのワイドレンジ測定に加え
豊富なアクセサリをご用意。

分散媒注入からセル洗浄まで約1分!

超音波プローブ搭載、最適な粒子分散を実現!

お買い求めやすいエントリーモデル!

業界最小サイズで精度保証。

0.1μm~1000μm測定範囲で多様なサンプルに対応

使い勝手を考えたユーザーフレンドリーな
シンプルオペレーション

測定原理 Mie散乱理論 Mie散乱理論
測定範囲 0.01~5000μm 0.1~1000μm
測定時間 60秒 約10秒 
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画像式

製品名 CAMSIZER M1 CAMSIZER X2 CAMSIZER P4 PARTAN 3D
製品画像
特長 焦点合わせ・撮像・測定面移動を
自動で行う光学顕微鏡
2カメラ光学系による幅広い測定範囲の
高精度粒子径分布、粒子形状測定
ふるい分けと高いデータ一致性
2カメラ光学系による大粒子、
バルク材の粒子径分布、粒子形状
ふるい分けと高いデータ一致性
三次元(3D)画像解析
ふるい分けと高いデータ一致性
測定原理 静的画像解析式
(ISO 13322-1)
動的画像解析式
(ISO 13322-2)
動的画像解析式
(ISO 13322-2)
動的画像解析式
(ISO 13322-2)
測定範囲 0.5~1500 μm 0.8 μm~8 mm 20 μm~30 mm 22 μm~35 mm
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動的光散乱法

製品名 NANOTRAC WAVE IIシリーズ NANOTRAC FLEX
製品画像
共通特長 周波数解析法とヘテロダイン法を利用することで、あらゆる粒子径分布(単峰性、多峰性、シャープ、ブロード)を
光子相関法(PCS)のようなわずらわしい分布関数の解析不要で適切な分布形状が得られます。
DLSでありながら高分解能の測定が可能です。
モデル WAVE II-EX150 WAVE II-EX151 WAVE II-UZ152 WAVE II-Q FLEX
プローブタイプ マルチモード シングルモード シングルモード シングルモード シングルモード
内部プローブ式 内部プローブ式 内部プローブ式 内部プローブ式 外部プローブ式
仕様 測定原理 動的光散乱法(周波数解析法)/電気泳動法(UZ:ゼータ電位測定の場合)
測定範囲 粒子径分布 0.8~6500nm
ゼータ電位 ✖ ✖ -200~+200mV ✖ ✖
分子量 ✖ 300Da~20MDa ✖
測定時間 30~1800秒(粒子径による)
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●:標準機能 〇:オプション機能 ✖:非搭載

レーザー回折式

製品名 マイクロトラック SYNCシリーズ マイクロトラック MT3000 IIシリーズ AEROTRAC II
製品画像
特長 特許取得済みの同期測定技術により、
レーザー回折・散乱法の可能性を広げました。
測定を簡単に、速く、正確に、再現性よく行うことができるだけでなく、サンプルセル 内の同一サンプルに対して、同時にダイナミックな画像解析を行うことができます。
様々な業界スタンダード評価装置となっている3本
レーザシステムで世界最高峰の分解能を有する装置です。
お客様のサンプルに応じた様々なオプションがあり、
分析、メンテナンスなどのサポートも充実しております。
AEROTRAC IIは、液滴、スプレー、塗装、ミスト、粉体専用の粒度分析装置でインジェクタ、ネブライザー、点鼻薬、殺虫剤、防水スプレーまで幅広いアプリケーションに対応しています。
湿式測定 測定レンジ 0.02~2000μm 0.02~2800μm 0.5~2000μm
測定時間 10秒~ 10秒~ 0.02m秒~
乾式測定 測定レンジ 0.2~2000μm 0.2~2800μm 0.5~2000μm
測定時間 10秒~ 10秒~ 0.02m秒~
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※1 S3500 SIとの組み合わせにより
●:標準機能 〇:オプション機能 ✖:非搭載

画像式

製品名 SOPAT XPT
製品画像
特徴 プローブ式でリアルタイムモニタリング 小型 リーズナブル
測定原理   動的画像解析式
測定範囲

 

0.5~50,000μm

 

model① 0.5-90μm
model② 0.9-170μm
model③ 1.5-280μm
model④ 3-350μm
model⑤ 9-1,200μm
model⑥ 19.5-2,600μm
model⑦ 70-9,300μm
model⑧ 10-50,000μm(※使用するレンズに依存)

 

 

XPT-C(分散液用・流通式)
1 µm ~1 mm、最大解像度0.475 µm/ピクセル

 

XPT-CP(粉体用)
10 µm~2 mm (湿式にオプション付与可能)
10μm~20mm (粉体測定のみ、乾燥粉体の付着があるため実質50μm~

 

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遠心沈降式

製品名 CPS Disc Centrifuge
製品画像
測定原理 ディスク遠心式
測定範囲 0.01~40μm (粒子密度に依存)
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電気的検知帯法

製品名 nCS1 nano particle counter
製品画像
特徴

高分解能、正確な濃度測定、極小

測定原理 電気的検知帯法(MRPS法)
測定範囲 50-300,
65-400,
130-900,
250-2000 nm,
1.5 – 10 μm
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超音波減衰分光法

製品名 DT1202
製品画像
特徴 濃厚系を原液測定ニーズに!
測定原理 超音波減衰分光法
測定範囲 0.005~1000μm
※試料による
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動的光散乱法

製品名 VASCO KIN VASCO
製品画像
特徴

・In-situ、非接触
・モニタリングに最適

・希薄から濃厚まで対応

測定原理 動的光散乱法

動的光散乱法

測定時間

30秒~数分

30秒~数分

測定範囲

0.5~10,000nm

0.5~10,000nm

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レーザー回折式

製品名 Bettersizer2600
製品画像
特徴

圧倒的コストパフォーマンス
幅広い粒子径を高感度にカバー

測定原理 レーザー回折、フーリエおよび逆フーリエ光学系
ミー散乱理論、フラウンホーファー回折理論
測定範囲 湿式::0.02~2600μm、
乾式::0.1~2600μm
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画像式

製品名 モフォロギシリーズ
製品画像
特徴 全自動で粒子径と粒子形状を測定
測定原理  静的自動画像分析(乾式/湿式)
測定範囲

0.5µm – 1300µm

2.5x:8.5 µm~1300 µm(公称値)
5x:4.5 µm~520 µm(公称値)
10x:2.5 µm~260 µm(公称値)
20x:1.5 µm~130 µm(公称値)
50x:0.5 µm~50 µm(公称値)

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PTA法

製品名 ナノサイト NS300
製品画像
特徴 粒子のブラウン運動をカメラでとらえ、
粒子径と粒子濃度を算出
測定原理 ナノトラッキング法(NTA)
測定波長

405nm(紫色)、488nm(青色)、
532nm(緑色)または642nm(赤色)

測定範囲

10nm~1000nm

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動的光散乱法

製品名 Zetasizer アドバンスシリーズ
製品画像
特徴

より早く、より少量で、より正確なナノ粒子測定を実現
用途に合わせて6タイプをご用意
(検出角度・レーザ出力)

測定原理

非接触後方散乱(NIBS)、
動的光散乱法(90°、13°)
多角度動的光散乱法(MADLS)

測定時間 約2分
(試料・測定内容に依存する)
測定範囲 Ultra: 0.3 nm~15 μm
Pro : 0.3 nm ~ 10 μm
Lab :0.3 nm ~ 15 μm
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レーザー回折式

製品名 マスターサイザー3000 マスターサイザー3000E スプレーテック インシテック(乾式) インシテック(湿式) インシテック(スプレー)
製品画像
特徴 幅広い粒子径・サンプルに
対応した、粒子径分布測定装置
粒度分布計のエントリーモデル 噴霧粒子および
スプレー液滴径測定
乾式プロセス用
リアルタイム測定器
湿式プロセス用
リアルタイム測定器
スプレー、エアロゾル
測定原理 Mie理論、Fraunhofer近似 Mie理論、Fraunhofer近似 MieおよびFraunhofer散乱 Mie 理論 Mie 理論 Mie 理論
測定範囲

0.01µm – 3500µm

0.1µm – 1000µm

レンズ(1): 0.1 – 900 µm
(Dv50: 0.5 – 600 µm
レンズ(2): 2 – 2000 µm
(Dv50: 5 – 1600 µm).

0.1µm – 2500µm

0.1µm – 2500µm

0.1µm – 2500µm
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製品名 AcoustoSizerⅡx
 
特徴 ゼータ電位と粒度分布を原液のままで
攪拌しながら測定可能です
測定原理 ゼータ電位:電気音響法
粒度分布:超音波減衰法
測定対象粒子径

ゼータ電位:0.5nm~100μm
粒度分布:10nm~100μm

対応濃度 0.1-40Vol%
対応粘度 最大7,500mPa・s
測定時間 約4分
測定時液量 標準:85mL~
少量:20mL~
ゼータ電位 〇
pH滴定 1-13
多検体 二峰性粒度分布解析
その他 ポンプチューブにより、生産ラインからの抜取検査可能
温度制御:10~50℃
非水系対応(NMP、MEK、アイソパー、
 MIBK、トルエンなど)
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製品名 マイクロトラック SYNCシリーズ マイクロトラック MT3000 IIシリーズ AEROTRAC II
 
特長 特許取得済みの同期測定技術により、
レーザー回折・散乱法の可能性を広げました。
測定を簡単に、速く、正確に、再現性よく行うことができるだけでなく、サンプルセル 内の同一サンプルに対して、同時にダイナミックな画像解析を行うことができます。
様々な業界スタンダード評価装置となっている3本
レーザシステムで世界最高峰の分解能を有する装置です。
お客様のサンプルに応じた様々なオプションがあり、
分析、メンテナンスなどのサポートも充実しております。
AEROTRAC IIは、液滴、スプレー、塗装、ミスト、粉体専用の粒度分析装置でインジェクタ、ネブライザー、点鼻薬、殺虫剤、防水スプレーまで幅広いアプリケーションに対応しています。
湿式測定 測定レンジ 0.02~2000μm 0.02~2800μm 0.5~2000μm
測定時間 10秒~ 10秒~ 0.02m秒~
FLOW循環器

〇

〇

×
有機溶媒対応 ● ● ●
乾式測定 測定レンジ 0.2~2000μm 0.2~2800μm 0.5~2000μm
測定時間 10秒~ 10秒~ 0.02m秒~
ワンショット × 〇 〇
リニアフィーダー 〇 〇

-

画像解析 湿式 〇 〇
※1
-
乾式 〇 × -
エアロゾル 液滴径 × × 〇
濃厚測定 × × 多重散乱補正機能付き
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※1 S3500 SIとの組み合わせにより
●:標準機能 〇:オプション機能 ✖:非搭載

製品名 Bettersizer2600
 
特徴

圧倒的コストパフォーマンス
幅広い粒子径を高感度にカバー

測定原理 レーザー回折、フーリエおよび逆フーリエ光学系
ミー散乱理論、フラウンホーファー回折理論
測定範囲 湿式::0.02~2600μm、
乾式::0.1~2600μm
測定時間 <10秒

測定セル

フローセル

標準
大容量  

バッチ式

 
高濃度  
高粘度  
少量

〇
8mL

画像  
乾式 標準
ビーカー  
温調  
気中  
その他  

多検体

 

その他

 
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製品名 PSA1190 PSA1090 PSA990
 
特徴 湿式と乾式標準(切替えはワンクリック)
光軸調整不要
測定原理      
測定範囲 湿式:0.04~2500 μm
乾式:0.1~2500 μm
湿式:0.04-500μm
乾式:0.1~500 μm
湿式:0.2~500 μm
乾式:0.3~500 μm
測定時間 <1分   <1分

測定セル

フローセル

標準 標準 標準
大容量      

バッチ式

     
高濃度      
高粘度      
少量 〇
40mL
〇
40mL
〇
40mL
画像      
乾式 標準 標準 標準
ビーカー      
温調 〇
(オプション)
〇
(オプション)
〇
(オプション)
気中      
その他 〇
(高比重サンプル)
〇
(高比重サンプル)
〇
(高比重サンプル)

多検体

〇
最大30検体
〇
最大30検体
〇
最大30検体

その他

乾式での自由落下測定    
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製品名 Partica LA-960V2 Partica mini LA-350
 
特徴

精度保証(世界唯一)のベストセラーモデル!

0.01μm~5000μmのワイドレンジ測定に加え
豊富なアクセサリをご用意。

分散媒注入からセル洗浄まで約1分!

超音波プローブ搭載、最適な粒子分散を実現!

お買い求めやすいエントリーモデル!

業界最小サイズで精度保証。

0.1μm~1000μm測定範囲で多様なサンプルに対応

使い勝手を考えたユーザーフレンドリーな
シンプルオペレーション

測定原理 Mie散乱理論 Mie散乱理論
測定範囲 0.01~5000μm 0.1~1000μm
測定時間 60秒 約10秒 

測定セル

フローセル

標準:180mL~ 標準:130mL~ 
大容量    

バッチ式

  〇
(専用セル、撹拌機能) 
高濃度  〇  
高粘度  〇  
少量 〇
 バッチ式:5 mL、10 mL、15 mL
 フロー式:35mL~
 
画像  〇  
乾式  〇  
ビーカー    
温調  〇  
気中 〇
スプレーユニット
 
その他    

多検体

〇
 湿式用(撹拌ユニット機能)
 乾式用 
 

その他

  有機溶媒対応仕様(オプション) 
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製品名 Litesizer
 
特徴 3つの測定角度
透過率、屈折率(500型)の測定機能
測定原理 動的光散乱法 (DLS)

測定時間

 

測定範囲

0.3 nm~10 µm* (直径)

測定角度

500型:15°、90°、175°
100型:175°

濃度範囲

50 %w/v (サンプルに依存)

温度調整

0~90 °C

測定セル

12 µL~

ゼータ電位

〇
※500型

pHタイトレーション

〇
(オプション)

分子量

〇
※500型

サイズ

460mm × 485mm × 145mm

重量

約20kg
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製品名 NANOTRAC WAVE IIシリーズ NANOTRAC FLEX
 
共通特長 周波数解析法とヘテロダイン法を利用することで、あらゆる粒子径分布(単峰性、多峰性、シャープ、ブロード)を
光子相関法(PCS)のようなわずらわしい分布関数の解析不要で適切な分布形状が得られます。
DLSでありながら高分解能の測定が可能です。
モデル WAVE II-EX150 WAVE II-EX151 WAVE II-UZ152 WAVE II-Q FLEX
プローブタイプ マルチモード シングルモード シングルモード シングルモード シングルモード
内部プローブ式 内部プローブ式 内部プローブ式 内部プローブ式 外部プローブ式
サンプルセル 粒子径専用
PTFE/SUS
粒子径専用
PTFE/SUS

粒子径
PTFE/SUS

ゼータ電位
PTFE 

粒子径専用
キュベットセル
-
測定項目 粒子径 ● ● ● ● ●
ゼータ電位 ✖ ✖ ● ✖ ✖
分子量 ✖ 〇 〇 〇 ✖
オプション 温調 〇 〇 〇 〇 ✖
個別製品特長 顔料インク測定の
ディファクトスタンダード
となっております。
シングルナノ粒子等の
微弱な散乱光の検出に最適。
低濃度から高濃度まで
幅広い濃度領域に
対応しています。
粒子径とゼータ電位の測定が簡便。
印加電場の迅速なスイッチングにより
電気浸透流を防ぎます。
ガラスやプラスチック製の
様々な容量のキュベットセルが
使用可能です。
あらゆる容器を測定容器として
使用することができ、
キュベットなどは必要ありません。
プローブをライン中で使用し、
反応中に成長する粒子を
モニタリングすることができます。
仕様 測定原理 動的光散乱法(周波数解析法)/電気泳動法(UZ:ゼータ電位測定の場合)
測定範囲 粒子径分布 0.8~6500nm
ゼータ電位 ✖ ✖ -200~+200mV ✖ ✖
分子量 ✖ 300Da~20MDa ✖
測定時間 30~1800秒(粒子径による)
有機溶媒対応 ●
レーザ 半導体レーザ  クラス1製品
試料量 EX/UT 最小200μl~2ml  UZ 500μl~2ml  5μl~
温調機能 +5~+90℃ ✖
外形寸法・重量 386(W)*330(H)*368(D)mm
6.8kg
180(W)*300(H)*260(D)mm
6kg
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●:標準機能 〇:オプション機能 ✖:非搭載

製品名 VASCO KIN VASCO
 
特徴

・In-situ、非接触
・モニタリングに最適

・希薄から濃厚まで対応

測定原理 動的光散乱法

動的光散乱法

測定時間

30秒~数分

30秒~数分

測定範囲

0.5~10,000nm

0.5~10,000nm

測定角度

135°

170°

濃度範囲

~40vol% ※試料による

~40vol% ※試料による

濃度調調節

 

10~70 ℃

測定セル

ガラス等の透明容器

10µl~
(最低試料量はサンプルの性状に依存)

サイズ

50 x 25 x 120 mm (HWD)ヘッド
220 x 220 x 64 mm (upper part)
220 x 220 x 48 mm (lower part)

30 cm x 33 cm x 28 cm (HWD)

重量

ヘッド 0.5kg
2.5 kg (upper part)
2.8 kg (lower part)

12 kg

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製品名 Zetasizer アドバンスシリーズ
 
特徴

より早く、より少量で、より正確なナノ粒子測定を実現
用途に合わせて6タイプをご用意
(検出角度・レーザ出力)

測定原理

非接触後方散乱(NIBS)、
動的光散乱法(90°、13°)
多角度動的光散乱法(MADLS)

測定時間 約2分
(試料・測定内容に依存する)
測定範囲 Ultra: 0.3 nm~15 μm
Pro : 0.3 nm ~ 10 μm
Lab :0.3 nm ~ 15 μm
測定角度 Ultra:多角度(173°、13°、90°)
Pro : 後方散乱(173°、13°)
Lab : 90°散乱(90°、13°)
濃度範囲 最大40% w/v(試料による)
温度調節 0°C ~ 120°C
※ 露点未満の温度では
乾燥窒素セルパージが必要
測定セル Ultra:最小3 μL
Pro:最小 12 μL
Lab:最小3μL
多検体

-

ゼータ電位

〇

pHタイトレーション 〇
分子量 〇
サイズ

322 mm x 565 mm x 245 mm

重量 19 kg
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製品名 nanoPartica SZ-100V2
 
特徴

業界初の高出力グリーンレーザや
世界最速のコリレータを搭載し高精度測定を実現!

多様化するサンプルに対応するゲル解析システムも搭載。

HORIBA独自開発のキュービックセルで
一歩先のゼータ電位測定!

測定原理  

測定時間

 

測定範囲

0.3 nm ~ 10 μm (直径)

測定角度

90° および173°

濃度範囲

 

濃度調調節

0~90℃
(プラスチック製セルおよび電極付きセルは70℃まで)

測定セル

ディスポセル:最小1.2mL
セミマイクロセル:最小500μL
ガラスセル:最小1.2mL
セミマイクロディスポセル:最小600μL
栓付セル:1.2mL
マイクロセル(側方のみ):12μL
サブマイクロセル:200μL
フローセル:100μL

ゼータ電位

〇
※Z2、HZ2型のみ

pHタイトレーション

〇

分子量

〇

サイズ

 

重量

 
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製品名 ELSZneo  ELSZ-2000ZS 

DLS-8000
6500型(DLS専用) 

nanoSAQLA
 

 

特長  ・ELSZシリーズの最上位機種
 ・希薄系から濃厚系溶液まで対応
 ・光散乱技術を駆使して微粒子のキャラクタリ
  ゼーションを提供
 ・希薄系から濃厚系溶液まで広範囲に対応
 ・光散乱技術で粒子径・ゼータ電位・分子量測定が
  可能
 ・光散乱技術で粒子径・分子量測定が可能
 ・固体レーザー仕様でナノ粒子を高精度に測定
 ・研究開発から品質管理まで使用できる仕様と機能
 ・標準仕様で最大5検体の連続測定が可能
 ・最大50検体連続測定が可能なオートサンプラを
  準備(オプション)
測定原理 動的光散乱
電気泳動光散乱
静的光散乱
動的光散乱
電気泳動光散乱
静的光散乱
動的光散乱
静的光散乱
動的光散乱
測定範囲 0.6nm~10μm 0.6 nm ~ 10μm 1.4 nm ~ 7000nm( 固体レーザー)
3 nm ~ 7000nm( He-Ne)
0.6nm ~ 10μm
濃度範囲

0.00001(0.1ppm)~40%

(PS Latex粒子:0.00001 ~ 10%、
タウロコール酸:~40%)

0.00001(0.1ppm)~40%

(PS Latex粒子:0.00001 ~ 10%、
タウロコール酸:~40%)

 

0.00001(0.1ppm)~40%

(PS Latex粒子:0.00001 ~ 10%、
タウロコール酸:~40%)

温度調節 〇
0~90℃
(温度グラジエント機能あり)
※ガラスセルを使用時
※ディスポセルの使用温度は10 ~ 50℃
〇
0~90℃
(温度グラジエント機能あり)
※ガラスセルを使用時
※ディスポセルの使用温度は10 ~ 50℃
〇
標準仕様: 5~90℃
高温仕様:5-160℃
〇
0 ~ 90℃
(温度グラジエント機能あり)
※5連セルホルダーや
ディスポセルを使用する場合は
15 ~ 40℃
測定セル 粒子径ガラスセル(四面透過):1.0mL~
多角度セル:1.5mL~
粒子径ディスポセル:1.0mL~
粒子径微量ガラスセル:20μL~
粒子径超微量ガラスセル:3μL~
粒子径微量ディスポセル:50μL~
角セル : 0.9mL ~
微量セル:20μL ~(オプション)
5φ微量セル: 50μL~(オプション)
12φ円筒セル:0.7mL~
21φ円筒セル: 3mL~
角セル:1.2mL~、
微量セル:20μL~
測定項目 粒子径

〇

〇 〇 〇
ゼータ電位

〇

〇    
分子量 〇 〇 〇  
サイズ 330(W)×565(D)×245(H)mm 380(W)×600(D)×210(H)mm 560(W)×700(D)×570(H)  mm 240(W) ×480(D)×375(H)mm
重量 22kg 22kg 約55kg 約18 kg
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製品名 DT1202
 
特徴 濃厚系を原液測定ニーズに!
測定原理 超音波減衰分光法
測定範囲 0.005~1000μm
※試料による
対応濃度 0.1~50Vol%
※試料による
対応粘度 20,000cp以下
測定時間 1-10分
測定セル 37-150mL
ゼータ電位

〇

pH滴定 〇
多検体  
その他  
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製品名 nCS1 nano particle counter
 
特徴

高分解能、正確な濃度測定、極小

測定原理 電気的検知帯法(MRPS法)
測定範囲 50-300,
65-400,
130-900,
250-2000 nm,
1.5 – 10 μm
測定時間 5分
測定セル

最小3μL、ディスポカートリッジ

その他  
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製品名 ZC-3000
 
特徴

希釈溶液の粒子一つ一つを顕微鏡で捉え、
泳動速度からゼータ電位を算出します

測定原理 ゼータ電位:顕微鏡電気泳動法
粒度分布:ブラウン運動解析法
測定時間 任意:20秒~
(粒子カウント数、または時間で設定)
測定対象粒子径 ゼータ電位:20nm~100μm
粒度分布:100nm~1μm

対応濃度

希薄状態

測定時液量

4mL

温度制御

なし

その他

 
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製品名 ナノサイト NS300
 
特徴 粒子のブラウン運動をカメラでとらえ、
粒子径と粒子濃度を算出
測定原理 ナノトラッキング法(NTA)
測定波長

405nm(紫色)、488nm(青色)、
532nm(緑色)または642nm(赤色)

測定範囲

10nm~1000nm

対応濃度

粒子106~109個/ml

測定セル

フローセル、有機溶媒対応セル

温度制御

室温から-5℃より最大50℃まで

その他

モーター駆動式ホイールに最大6個の異なる光学フィルタ

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製品名 ViewSizer3000
 
特徴

キュベットセル式
(メンテナンス、再現性良好)

測定原理 Particle Tracking Analysis(PTA)法
測定波長 3波長光源
測定範囲 10nm~15μm(直径)

対応濃度

5×106 ~ 2×108 particles/mL

測定セル

350μL~1,250μL ※キュベットセル

温度制御

10~50℃、 ±0.1℃

その他

蛍光フィルタ
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製品名 CPS Disc Centrifuge
 
特徴  
測定原理 ディスク遠心式
測定範囲 0.01~40μm (粒子密度に依存)
最大遠心力 600~12,000 rpm (Model DC12000)
600~18,000 rpm (Model DC18000)
600~24,000 rpm (Model DC24000UHR)
測定セル ディスク式(材質:CR-39)
対応濃度  
対応粘度  
測定時間 3~30分(測定範囲、粒子密度に依存)
温度制御  
測定光源 発光ダイオード
405nm or 470nm選択
その他  
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製品名 Partica CENTRIFUGE
 
特徴  
測定原理 遠心沈降法
測定範囲 10 nm ~ 40 μm
最大遠心力  30,000 G
測定セル  
対応濃度  
対応粘度  
測定時間  
温度制御 15 ~ 25℃
測定光源  
その他 密度勾配フラクショネータ(オプション)
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製品名 CAMSIZER M1 CAMSIZER X2 CAMSIZER P4 PARTAN 3D
 
特長 焦点合わせ・撮像・測定面移動を
自動で行う光学顕微鏡
2カメラ光学系による幅広い測定範囲の
高精度粒子径分布、粒子形状測定
ふるい分けと高いデータ一致性
2カメラ光学系による大粒子、
バルク材の粒子径分布、粒子形状
ふるい分けと高いデータ一致性
三次元(3D)画像解析
ふるい分けと高いデータ一致性
測定原理 静的画像解析式
(ISO 13322-1)
動的画像解析式
(ISO 13322-2)
動的画像解析式
(ISO 13322-2)
動的画像解析式
(ISO 13322-2)
測定範囲 0.5~1500 μm 0.8 μm~8 mm 20 μm~30 mm 22 μm~35 mm

測定量

測定面の移動範囲
225mm x 76mm 最大
300画像/秒
1~3分間で数十万から数百万個の粒子解析
60画像/秒 100画像/秒

試料供給方法

湿式・乾式M-JET 湿式・乾式自然落下・乾式空気圧分散 乾式自然落下 乾式自然落下
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製品名 SOPAT XPT
 
特徴 プローブ式でリアルタイムモニタリング 小型 リーズナブル
測定原理   動的画像解析式
測定範囲

 

0.5~50,000μm

 

model① 0.5-90μm
model② 0.9-170μm
model③ 1.5-280μm
model④ 3-350μm
model⑤ 9-1,200μm
model⑥ 19.5-2,600μm
model⑦ 70-9,300μm
model⑧ 10-50,000μm(※使用するレンズに依存)

 

 

XPT-C(分散液用・流通式)
1 µm ~1 mm、最大解像度0.475 µm/ピクセル

 

XPT-CP(粉体用)
10 µm~2 mm (湿式にオプション付与可能)
10μm~20mm (粉体測定のみ、乾燥粉体の付着があるため実質50μm~

 

撮影視野

 

model① 0.17mmΦ
model② 0.38mmΦ
model③ 0.55mmΦ
model④ 0.8mmΦ
model⑤ 2.7mmΦ
model⑥ 5.9mmΦ
model⑦ 20mmΦ
model⑧ (※使用するレンズに依存)

 

 

その他

耐熱:0-130℃ 最大-50~450℃ オプション
圧力:0.01~3bar(最大0.01-320bar) オプション

オプション
温調(4~70℃)
蛍光光源
分散安定性評価

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製品名 モフォロギシリーズ
 
特徴 全自動で粒子径と粒子形状を測定
測定原理  静的自動画像分析(乾式/湿式)
測定範囲

0.5µm – 1300µm

2.5x:8.5 µm~1300 µm(公称値)
5x:4.5 µm~520 µm(公称値)
10x:2.5 µm~260 µm(公称値)
20x:1.5 µm~130 µm(公称値)
50x:0.5 µm~50 µm(公称値)

測定量

スライドガラス4枚分

測定時間

 

その他

ラマンスペクトルを用いた粒子の化学情報の取得
ウエットセルによる液中粒子の分析

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製品名 Liqui Scan(ES-DMA)
 
特徴

粒子分級技術(DMA法)による多分散サンプル計測が可能
最小2.5nm~の粒子を個数評価が可能であり、
CMPスラリー/金属微粒子/ポリマーなどの
無機材料やタンパク質などの凝集体評価などを
精度よく測定が可能です。

また水・IPA・過酸化水素水などのコンタミを
シングルナノから計測可能です。

測定原理 DMA法
測定範囲 2.5-1,000nm
粒子カウント CPC
測定時間 1~4分
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製品名 電磁式ふるい振とう機
ASシリーズ
水平回転式ふるい振とう機
AS400

エアジェットシーブ
AS 200 JET

タップ式ふるい振とう機
AS200 TAP
 
特徴 スタンダードモデル、モデル多種 従方向の動きがなく、長尺、繊維試料に最適 微粒子を短時間でふるい分け 手ぶるいを機械的に再現
測定原理 電磁振とう 水平回転運動 減圧吸引(ふるい1枚) タップ式ふるい振とう
測定範囲 20 µm – 125 mm 45 µm – 63 mm 10 µm – 4 mm 20 µm – 25 mm
分級方式 三次元運動 DIN53477に準拠した水平回転運動 ジェット気流を使った分散 回転往復運動とタッピングの併用
測定時間(平均) 5分~10分 5分~10分 2分~3分 5分~10分
適用ふるい径 Φ100mm~Φ450mm Φ100mm~Φ400mm Φ200mm/Φ203mm Φ200mm/Φ203mm
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モデル名 VSS-450-300 RVS-210 RSS-210-S
外観
特徴 ・真空、N2、H2、ギ酸 対応
・フラックス入り/無しのはんだに対応
・搬送ロボット/ローダーとの組合せ『可』
・300mm角対応

・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応
・フラックス入り/無しのはんだに対応

・200mm角対応

・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応
・毎分240k/minの高速昇温

・200mm角対応

加熱プレートサイズ WxD(mm) 320×320 210×210 210×210
有効対象物サイズ WxDxH(mm) 300×300×50 200×200×50 200×200×50
最大到達温度 450℃ 400℃ 400℃
加熱方式 クロス配列IRヒーター
(下部加熱)
IRヒーター(下部加熱) IRヒーター(下部加熱)
温度制御方式 P.I.D.制御方式
プレート上面内温度差 設定温度に対して±1%以内 設定温度に対して±1%以内
(対象物:Φ300mmウエハ時) (対象物:Φ200mmウエハ時) (対象物:Φ200mmウエハ時)
最大昇温速度
※対象物の熱容量に因る
150K/min. 120K/min 240K/min
最大降温速度
※対象物の熱容量に因る
90K/min(T=450℃>200℃)
60K/min(T=200℃>100℃)
120K/min(T=400℃>200℃)
—
120K/min(T=400℃>200℃)
—
チャンバー真空耐久度 0.1 Pa(10-3hPa)
プロセスガス供給ライン マスフローコントローラ×1(最大流量:5nlm)
コントローラ タッチパネルコントローラSIMATIC®TP-700
プロファイルプログラム登録数 最大:50プログラム
プログラムステップ数 最大:50ステップ
チャンバー冷却方式 ウォータージャケット方式
加熱プレート冷却方式 水冷/空冷(共用可)
装置サイズ WxDxH(mm) 550x690x830 670x544x320 430x295x290
装置重量 (kg) 約105kg 約45kg 約22kg
電源仕様 三相200V・40A 三相200V・25A 三相200V・16A
ギ酸・水素還元両対応 卓上型真空はんだリフロー装置 装置オプション
上部IRヒーター
モジュール
標準 ○
(電源仕様:三相200V、80A)
—
セパレート用石英ガラス板 ○ —
チャンバー高さ ○(120mm) チャンバー高さ80mm チャンバー高さ80mm
最大到達温度 650℃   最大到達温度500℃
蓋付きグラファイト製円筒アダプタ — —
グラファイト製
プレート
標準 — —
PyC浸潤 — —
SiCコーティング — —
ダブルチャンバー — —
石英ガラス製
チャンバー
標準 — —
高真空対応 — —
内蔵ギ酸還元
モジュール
内蔵
(標準の窒素ガスMFC共用)
○
内蔵
(標準の窒素ガスMFC別系統)
○
外付け
(標準の窒素ガスMFC別系統)
○
ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター ○
フラックストラップフィルター — —
高濃度水素ガス供給システム
(安全対策オプション含む)
○
チャンバー蓋インターロック (標準装備) ○
追加プロセスガス供給用マスフローコントローラ ○
(合計4系統)
 
追加熱電対
(対象物温度測定・記録用)
○
(合計1本)
○
(合計3本)
 
湿度測定センサ
(チャンバー内湿度測定・記録用)
○ —
酸素濃度測定センサ
(チャンバー内残留酸素濃度測定・記録用)
○
3色パトライト(赤・黄・緑) ○
高真空対応チャンバー10-4Pa(10-6hPa)
及びターボ分子ポンプ
○  
対象物持ち上げ用リフトピン ○  
外部機器通信用シリアル通信機能 ○  
チャンバー蓋開閉用リモート制御機能 ○  
真空ポンプ
(真空到達圧)
低真空 ○
(メンブレン式(200Pa)、耐腐食メンブレン式(200Pa)、ロータリー式(0.1Pa)、耐腐食ロータリー式(0.1Pa)、スクロール式(0.3Pa)、ドライ式(5Pa)から選択)
高真空 ○
ターボ分子ポンプ(10-4Pa)
 
冷却機付きチラー 1.3kW ○
(5.3kW or 8.7kW)
○
(1.3kW or 2.7kW)
○
(1.3kW or 2.7kW)
ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー ○
(504x714x412mm、約50kg)

 

 

 

 

 

RSO-200 RSS-3X210-S RSS-160-S RSS-110-S
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応
155×155×40 620×200×50 155×155×40 105×105×40
650℃ 300℃ 400℃
  クロス配列IRヒーター
(下部加熱)
カートリッジヒーター(下部加熱)

 

 

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