カタログ

観察

観察装置の他、周辺機器、前処理装置、受託分析など、観察に関する一連の機器・サービスをご紹介しています。（全14ページ）

掲載内容

観察装置
究極の性能を実現！大型自動ステージ搭載！	走査型プローブ顕微鏡	P1
世界最速・高分解能！大型試料用SPM！	走査型プローブ顕微鏡	P1
高い基本性能と拡張性、抜群のコストパフォーマンス	走査型プローブ顕微鏡	P1
前処理なしで手軽に観察	卓上電子顕微鏡	P2
超低加速電圧で形態観察の新時代へ！	電子線三次元粗さ解析装置	P2
干渉画像を価値ある情報へ	非接触表面・断層面形状計測システム	P3
直感的操作でありのままを観察可能！	デジタルマイクロスコープ	P4
顕微鏡イメージにケミカルイメージを同一化！	ラマン顕微鏡	P4
5つの機能を1台に集約！	ハイブリットカラーコンフォーカルマイクロスコープ	P5
ナノ粒子の動きを追跡!	ナノ粒子解析システム	P6
3D高速イメージングの新しいアプローチ!	デジタルホログラフィック顕微鏡システム	P6
周辺機器
試料をそのままSEMで透過観察	SEM用観察ホルダーTRANSEM Holder	P7
低温～高温の安定した観察が可能！	顕微鏡用冷却加熱ステージ	P8
多種多様なサンプルを簡単に保持測定が可能！	異形サンプルホルダー	P8
前処理装置
透明材料表面の光学顕微鏡観察を容易に！	小型マグネトロンスパッタ装置	P9
マグネトロンターゲット採用で試料ダメージを最小限に！	マグネトロンスパッタ装置	P9
大面積試料や多数個試料の一括処理が可能！	オスミウムコーター	P9
TEM,SEM,XMA用カーボン蒸着装置	カーボンコーター	P9
小さくても安定感のある研磨を	小型研磨装置	P10
切断機で生じるバリ・ダレを解消	精密切断小型ダイヤモンドワイヤーソー	P10
プラスワン
高い除振機能、機能美のデザイン、優れたコストパフォーマンス！	卓上型除振台	P11
電子線応用装置を磁場変動から守ります！	アクティブ磁場キャンセラ―	P11
分析者の7つ道具	サンプリングキット	P12
200μm以上の異物をピックアップ	マイクロタッチペン	P12
試料表面の削りだしに	ミニカンナ	P12
現在お持ちの画像がより鮮明に！	画像処理ソフトウェア	P12
受託分析
表面・微小領域の分析解析	①経常観察　②構造　③元素分析	P13
表面・微小領域の分析解析	④結合状態　⑤FIB加工　⑥ライツ高温顕微鏡	P14

製品名	CPS Disc Centrifuge

特徴
測定原理	ディスク遠心式
測定範囲	0.01～40μm （粒子密度に依存）
最大遠心力	600～12,000 rpm (Model DC12000) 600～18,000 rpm (Model DC18000) 600～24,000 rpm (Model DC24000UHR)
測定セル	ディスク式（材質：CR-39）
対応濃度
対応粘度
測定時間	3～30分（測定範囲、粒子密度に依存）
温度制御
測定光源	発光ダイオード 405nm or 470nm選択
その他
カタログのお申込み	カタログのお申込み ※同業・競業他社様につきましては、カタログ請求をご遠慮いただくようお願いいたします。

製品名	モフォロギシリーズ

特徴	全自動で粒子径と粒子形状を測定
測定原理	静的自動画像分析（乾式/湿式）
測定範囲	0.5µm – 1300µm 2.5x：8.5 µm～1300 µm（公称値） 5x：4.5 µm～520 µm（公称値） 10x：2.5 µm～260 µm（公称値） 20x：1.5 µm～130 µm（公称値） 50x：0.5 µm～50 µm（公称値）
測定量	スライドガラス4枚分
測定時間
その他	ラマンスペクトルを用いた粒子の化学情報の取得ウエットセルによる液中粒子の分析
カタログのお申込み	カタログのお申込み ※同業・競業他社様につきましては、カタログ請求をご遠慮いただくようお願いいたします。

モデル名		VSS-450-300	RVS-210	RSS-210-S
外観
特徴		・真空、N2、H2、ギ酸対応・フラックス入り/無しのはんだに対応・搬送ロボット/ローダーとの組合せ『可』・300mm角対応	・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応・フラックス入り/無しのはんだに対応・200mm角対応	・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応・毎分240k/minの高速昇温・200mm角対応
加熱プレートサイズ	WxD(mm)	320×320	210×210	210×210
有効対象物サイズ	WxDxH(mm)	300×300×50	200×200×50	200×200×50
最大到達温度		450℃	400℃	400℃
加熱方式		クロス配列IRヒーター（下部加熱）	IRヒーター（下部加熱）	IRヒーター（下部加熱）
温度制御方式		P.I.D.制御方式
プレート上面内温度差		設定温度に対して±1%以内		設定温度に対して±1%以内
プレート上面内温度差		（対象物：Φ300mmウエハ時）	（対象物：Φ200mmウエハ時）	（対象物：Φ200mmウエハ時）
最大昇温速度 ※対象物の熱容量に因る		150K/min.	120K/min	240K/min
最大降温速度 ※対象物の熱容量に因る		90K/min（T=450℃>200℃） 60K/min（T=200℃>100℃）	120K/min（T=400℃>200℃） —	120K/min（T=400℃>200℃） —
チャンバー真空耐久度		0.1 Pa（10^-3hPa）
プロセスガス供給ライン		マスフローコントローラ×1（最大流量：5nlm）
コントローラ		タッチパネルコントローラSIMATIC®TP-700
プロファイルプログラム登録数		最大：50プログラム
プログラムステップ数		最大：50ステップ
チャンバー冷却方式		ウォータージャケット方式
加熱プレート冷却方式		水冷/空冷（共用可）
装置サイズ	WxDxH(mm)	550x690x830	670x544x320	430x295x290
装置重量	(kg)	約105kg	約45kg	約22kg
電源仕様		三相200V・40A	三相200V・25A	三相200V・16A
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置　装置オプション
上部IRヒーターモジュール	標準	○ （電源仕様：三相200V、80A）	—
上部IRヒーターモジュール	セパレート用石英ガラス板	○	—
チャンバー高さ		○（120mm）	チャンバー高さ80mm	チャンバー高さ80mm
最大到達温度		650℃		最大到達温度500℃
蓋付きグラファイト製円筒アダプタ		—	—
グラファイト製プレート	標準	—	—
	PyC浸潤	—	—
	SiCコーティング	—	—
ダブルチャンバー		—	—
石英ガラス製チャンバー	標準	—	—
石英ガラス製チャンバー	高真空対応	—	—
内蔵ギ酸還元モジュール	内蔵（標準の窒素ガスMFC共用）	○
	内蔵（標準の窒素ガスMFC別系統）	○
	外付け（標準の窒素ガスMFC別系統）	○
ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター		○
フラックストラップフィルター		—	—
高濃度水素ガス供給システム（安全対策オプション含む）		○
チャンバー蓋インターロック		（標準装備）	○
追加プロセスガス供給用マスフローコントローラ		○ （合計4系統）
追加熱電対（対象物温度測定・記録用）		○ （合計1本）	○ （合計3本）
湿度測定センサ（チャンバー内湿度測定・記録用）		○		—
酸素濃度測定センサ（チャンバー内残留酸素濃度測定・記録用）		○
3色パトライト（赤・黄・緑）		○
高真空対応チャンバー10-4Pa（10-6hPa）及びターボ分子ポンプ		○
対象物持ち上げ用リフトピン		○
外部機器通信用シリアル通信機能		○
チャンバー蓋開閉用リモート制御機能		○
真空ポンプ（真空到達圧）	低真空	○ （メンブレン式(200Pa)、耐腐食メンブレン式(200Pa)、ロータリー式(0.1Pa)、耐腐食ロータリー式(0.1Pa)、スクロール式(0.3Pa)、ドライ式(5Pa)から選択）
真空ポンプ（真空到達圧）	高真空	○ ターボ分子ポンプ（10-4Pa）
冷却機付きチラー	1.3kW	○ （5.3kW or 8.7kW）	○ （1.3kW or 2.7kW）	○ （1.3kW or 2.7kW）
ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー		○ （504x714x412mm、約50kg）

RSO-200	RSS-3X210-S	RSS-160-S	RSS-110-S

・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応
155×155×40	620×200×50	155×155×40	105×105×40
650℃	300℃	400℃
	クロス配列IRヒーター（下部加熱）	カートリッジヒーター（下部加熱）