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生産技術＜フィルム製造工程編＞

生産技術の第一弾です。フィルムの製造工程で使用される機器をご紹介。
原料受入・調合からフィルム巻き取りまで、それぞれの工程における評価機器や検査機器を掲載しています。全20頁。

掲載内容

原料受入・調合
P1	ポリマー原料の濃度管理	超音波濃度計
P1	粉粒体と液の混練（バッチ式）	プラネタリーミキサー
P1	粉粒体と液の混練（連続式）	ヘンシェルミキサー
P2	粉粒体の定量供給	アキュレートフィーダー
P2	均一混合とハンドリングを両立	ロッキングファンミキサー
P2	供給ガスの露点管理・最適水分濃度調整に	防爆オンライン水分計
重合
P3	高効率攪拌による生産性・品質向上	攪拌機
P3	反応終点のモニタリング	振動式粘度計
P4	反応終点のモニタリング	防爆細管式粘度計
P4	重合前のモノマー中の酸素のコントロール	溶存酸素計
P5	反応槽の加熱・温度制御	防爆熱媒加熱装置
P5	減圧排気ポンプ	液封式真空ポンプ
P6	過熱蒸気を任意に減温・減圧	減温機
P6	ポリマーの定量抜き出し	ゼニスポンプ
P7	液面のレベル測定	超音波液面計・レベル計
P7	メルトインデックス測定	オンラインメルトインデクサー
P8	重合後の粒度管理	オンライン粒度分布計
P8	加熱スチームの省エネ管理	超音波スチーム流量計
冷却(ストランド)
P9	冷却時の蒸気回収	工業用電気集塵機
P9	押出し機水槽の冷却	冷温水循環装置
ペレット化 (カッティング)
P9	粉の出ないペレット生産を実現	ペレットカッター
ペレット検査
P10	貯蔵タンクに移送時の異物選別	粒体異物選別機
P10	オンラインでの樹脂ペレットの色彩検査	色彩計測画像装置
P10	ペレットの成分分析	NIR近赤外分析計
P10	抜取り検査用自動サンプリング	NIR近赤外分析計QCEC-Makino 粉粒体用サンプラー
貯蔵
P11	貯蔵施設雰囲気の水分管理	静電容量式露点計
P11	タンク内の材料ブリッジ解消	バイブレーター
P11	ペレットのホッパーの計量管理	ロードセル（ホッパースケール）
P11	温湿度測定	温湿度測定及び温湿度データ管理
ペレット乾燥
P12	現場でのペレット水分測定に	ポリマー用水分計
P12	ペレットの乾燥用として・除湿エアーの供給	ホッパードライヤー
ペレット混合
P13	計量混合装置	計量混合装置
P13	高温サンプルの供給、せん断等ダメージを嫌うサンプルに最適	サインポンプ
P13	微量粉体の添加	粉体フィーダー
溶融形成
P14	押出し時の圧力モニター	樹脂圧力計
P14	押し出しの粘弾性、せん断性の評価	メルトフローレイタ
P14	Ｔダイの洗浄	超音波洗浄器
キャスティング
P15	シート及びキャスト・フィルム押し出し温度管理	非接触赤外線温度計
延伸
P15	非接触式の除塵装置	非接触式 3Dウェブクリーナー
P15	フィルムの除電対策	イオナイザー
フィルム検査
P16	フィルム上の異物検査	レーザー式欠陥検査装置
P16	フィルムの連続厚み測定	オンライン赤外線水分・膜厚計
P17	フィルムの異物検査	無地表面品質検査装置
P17	フィルムの連続光沢測定	オンライン光沢計
P18	フィルムの連続色測定	オンライン分光測色計
P18	フィルムの透過度、色、くもり度測定	ウェブ全幅用分光計測システム
P18	フィルム膜厚（多層膜）測定	フィルム多層膜測定装置
フィルム搬送ライン
P19	長時間連続使用可能な超音波カッター	超音波カッター
P19	親水性、接着性の向上	コロナ表面処理装置
P19	ローラー表面のゴムラバーの定期的磨耗交換の管理に	光沢計
P20	イオナイザーの機能評価	チャージプレートモニター
P20	ラインのパーティクル管理	多点式パーティクルカウンター
巻取り
P20	ロールの巻取り硬さ管理	ロールハードネス測定器
P20	巻き取りロールの回転数モニター	トルクメーター(ポータブル回転計) 、ロータリーエンコーダー

モデル名		VSS-450-300	RVS-210	RSS-210-S
外観
特徴		・真空、N2、H2、ギ酸対応・フラックス入り/無しのはんだに対応・搬送ロボット/ローダーとの組合せ『可』・300mm角対応	・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応・フラックス入り/無しのはんだに対応・200mm角対応	・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応・毎分240k/minの高速昇温・200mm角対応
加熱プレートサイズ	WxD(mm)	320×320	210×210	210×210
有効対象物サイズ	WxDxH(mm)	300×300×50	200×200×50	200×200×50
最大到達温度		450℃	400℃	400℃
加熱方式		クロス配列IRヒーター（下部加熱）	IRヒーター（下部加熱）	IRヒーター（下部加熱）
温度制御方式		P.I.D.制御方式
プレート上面内温度差		設定温度に対して±1%以内		設定温度に対して±1%以内
プレート上面内温度差		（対象物：Φ300mmウエハ時）	（対象物：Φ200mmウエハ時）	（対象物：Φ200mmウエハ時）
最大昇温速度 ※対象物の熱容量に因る		150K/min.	120K/min	240K/min
最大降温速度 ※対象物の熱容量に因る		90K/min（T=450℃>200℃） 60K/min（T=200℃>100℃）	120K/min（T=400℃>200℃） —	120K/min（T=400℃>200℃） —
チャンバー真空耐久度		0.1 Pa（10^-3hPa）
プロセスガス供給ライン		マスフローコントローラ×1（最大流量：5nlm）
コントローラ		タッチパネルコントローラSIMATIC®TP-700
プロファイルプログラム登録数		最大：50プログラム
プログラムステップ数		最大：50ステップ
チャンバー冷却方式		ウォータージャケット方式
加熱プレート冷却方式		水冷/空冷（共用可）
装置サイズ	WxDxH(mm)	550x690x830	670x544x320	430x295x290
装置重量	(kg)	約105kg	約45kg	約22kg
電源仕様		三相200V・40A	三相200V・25A	三相200V・16A
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置　装置オプション
上部IRヒーターモジュール	標準	○ （電源仕様：三相200V、80A）	—
上部IRヒーターモジュール	セパレート用石英ガラス板	○	—
チャンバー高さ		○（120mm）	チャンバー高さ80mm	チャンバー高さ80mm
最大到達温度		650℃		最大到達温度500℃
蓋付きグラファイト製円筒アダプタ		—	—
グラファイト製プレート	標準	—	—
	PyC浸潤	—	—
	SiCコーティング	—	—
ダブルチャンバー		—	—
石英ガラス製チャンバー	標準	—	—
石英ガラス製チャンバー	高真空対応	—	—
内蔵ギ酸還元モジュール	内蔵（標準の窒素ガスMFC共用）	○
	内蔵（標準の窒素ガスMFC別系統）	○
	外付け（標準の窒素ガスMFC別系統）	○
ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター		○
フラックストラップフィルター		—	—
高濃度水素ガス供給システム（安全対策オプション含む）		○
チャンバー蓋インターロック		（標準装備）	○
追加プロセスガス供給用マスフローコントローラ		○ （合計4系統）
追加熱電対（対象物温度測定・記録用）		○ （合計1本）	○ （合計3本）
湿度測定センサ（チャンバー内湿度測定・記録用）		○		—
酸素濃度測定センサ（チャンバー内残留酸素濃度測定・記録用）		○
3色パトライト（赤・黄・緑）		○
高真空対応チャンバー10-4Pa（10-6hPa）及びターボ分子ポンプ		○
対象物持ち上げ用リフトピン		○
外部機器通信用シリアル通信機能		○
チャンバー蓋開閉用リモート制御機能		○
真空ポンプ（真空到達圧）	低真空	○ （メンブレン式(200Pa)、耐腐食メンブレン式(200Pa)、ロータリー式(0.1Pa)、耐腐食ロータリー式(0.1Pa)、スクロール式(0.3Pa)、ドライ式(5Pa)から選択）
真空ポンプ（真空到達圧）	高真空	○ ターボ分子ポンプ（10-4Pa）
冷却機付きチラー	1.3kW	○ （5.3kW or 8.7kW）	○ （1.3kW or 2.7kW）	○ （1.3kW or 2.7kW）
ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー		○ （504x714x412mm、約50kg）

RSO-200	RSS-3X210-S	RSS-160-S	RSS-110-S

・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応
155×155×40	620×200×50	155×155×40	105×105×40
650℃	300℃	400℃
	クロス配列IRヒーター（下部加熱）	カートリッジヒーター（下部加熱）