急速ランプ加熱＆液体窒素ミスト急速冷却システム

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  • アドバンス理工(株)

アドバンス理工 社が得意とするランプ加熱装置に、
液体窒素ミスト吹付け装置を組み合わせる事で
急冷加熱システムとしてご利用可能になります。

 

400℃から0℃まで、わずか2秒で急冷ができます。

 

  • ★液体窒素温度付近（-192℃：実計測値）まで冷却可能
  • ★同一チャンバー内で大気に触れることなく、
    　加熱→急冷→再加熱も可能
  • ★急冷する事で、薄膜のアモルファス化が期待できます！

製品情報

仕様・構成・構造

冷却方式 液体窒素ミスト直接噴霧（石英ノズル）
冷却速度

400℃→0℃（約2秒）

※Siウエハー等、試料熱容量による
雰囲気 真空/不活性ガス

 

(1) 液体窒素が入った密閉デュワーボトルを窒素ガスにて加圧

(2) 加圧されることにより、液体窒素がボトルから追い出され、
　  石英のノズル先端部からミスト状で試料に直接噴霧

 

※システムではなく、既に同社製 MILA-5000/3000シリーズをお持ちでしたら
　アップグレードが可能です

事例

▷加熱で動き回る原子を、整列する前に一瞬で固定。

　「本来ありえない」原子配列を強制的に作ることで、未知の機能を持つ新材料を探索できます。

▷加熱・冷却・測定を同一雰囲気（真空/不活性ガス）で完結。

　酸化や不純物混入リスクを完全に排除した酸化ゼロのOne-Stop 処理が可能です。

 

 

▼動画：800℃から0℃まで約9秒

 

【想定活用】

■半導体・金属・無機材料

・薄膜のアモルファス化：結晶化の抑制による新物性探索

・ナノ結晶化制御：微細組織のフリーズによる高機能化

・相変態プロセスの解明：高速冷却下でのin-situ測定

・金属合金の微結晶化とアニール効果の評価

 

■有機・高分子材料

・構造凍結（フリーズ）：液晶ブロックコポリマー等のミクロ相分離構造を、熱分解前に固定

・機能性フィルム改質：精密な熱履歴制御で強度・透明性を向上

・赤外線加熱シナジー：内部加熱×表面急冷の新規プロセス