卓上型真空・雰囲気加熱乾燥装置｜RSS-110-S

この製品へのお問い合わせ

卓上型真空炉　RSS-110-S　　（ユニテンプジャパン株式会社）

ユニテンプジャパン株式会社からリフロー炉として開発された製品ですが、小さな試料の乾燥炉としてご利用頂く事もできると提案いたします。

小型、少量処理をお望みの方は是非ご検討ください。

製品情報

特徴
仕様
オプション
姉妹品
関連製品

特徴

▼小型！

・A3サイズよりも小さな設置面積	幅260×奥420mm
・コンセントで駆動	AC100Vで駆動（AC200Vも対応）
・容易に持ち運びできる	装置重量約10kg

▼ホットプレート加熱方式

・少量の基盤処理に便利	有効エリア　110×110mm
・高温域にまで対応	温度制御範囲　　RT～400℃（オプション500℃）
・早い昇温速度	昇温：約120K/min
・早い降温速度（急冷）	降温：180K/min（400～200℃の間）

▼真空とガスフローによる雰囲気下での乾燥

・真空到達	0.1Pa
・ガス雰囲気下	マスフローコントローラー1系統標準装備（最大5nlm） ※オプションにて水素、ギ酸などの還元雰囲気にも対応（要相談願います。）
・オプションによる残留酸素モニタ

仕様

本体標準仕様

装置サイズ（W×D×H）	260×420×220mm
装置重量	約10kg
加熱プレートサイズ（W×D）	110mm×110mm
有効対象物サイズ（W×D×H）	105mm×105mm×40mm
最大到達温度	400℃
加熱方式	カートリッジヒーター（下部加熱）
温度制御方式	P.I.D.制御方式
プレート上温度バラつき	設定温度に対して±1.5％以内（対象物：Φ110mmウエハ時）
最大昇温速度　※対象物の熱容量に因る	120K/min.
最大降温速度　※対象物の熱容量に因る	180K/min.（T=400℃＞200℃）
チャンバー真空耐久度	0.1Pa（10-3hPa）
プレセスガス共有ライン	マスフローコントローラ×１（最大流量：5nlm）
コントローラ	タッチパネルコントローラSIMATIC TP-700
プロファイルプログラム登録数	最大：50プログラム
プログラムステップ数	最大：50ステップ
プロセスデータ保存先	USBメモリ/SDカード/Ethernet
チャンバー冷却方式	ウォータージャケット方式
加熱プレート冷却方式	水冷/空冷（共用可）
電源仕様	単相200V、6.5A 単相100V、13A

オプション

装置本体

周辺ユーティリティー

真空ポンプ電動自動ON/OFF制御機能　※必須

チャンバー内真空度測定・記載記録及び
ピラニ型真空度センサ　※必須

チャンバー高さ80mm

最大到達温度500℃

外付ギ酸還元モジュール
（基準の窒素ガス共有とMFC別系統）

ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター

フラックストラップフィルター

高濃度水素ガス共有システム及び
安全対策オプション

チャンバー蓋インターロック

対象物温度測定・記録用追加熱電対（合計１本）

チャンバー内残留酸素濃度測定・記録機能及び
残留酸素濃度測定センサ

３色パトライト（赤・黄・緑）

真空到達度200Paメンブラン式真空ポンプ

真空到達度200Pa耐腐食性メンブラン式真空ポンプ

真空到達度0.1Paロータリー式真空ポンプ

真空到達度0.1Pa耐腐食性ロータリー式真空ポンプ

真空到達度0.3Paスクロール式真空ポンプ

真空到達度5Paドライ式真空ポンプ

1.3kW冷却器付きチラー

ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー
（504×714×412mm、約50kg）

姉妹品

HP-220

機能を絞り、さらに小型化！

装置サイズ（W×D×H）	370×210×120mm
装置重量	約10kg
加熱プレートサイズ（W×D）	220mm×155mm
有効対象物サイズ（W×D×H）	210mm×150mm
最大到達温度	250℃
加熱方式	カートリッジヒーター（下部加熱）
温度制御方式	P.I.D.制御方式
プレート上面内部温度差	設定温度に対して±1％以内
最大昇温速度　※対象物の熱容量に因る	25K/min.
最大降温速度　※対象物の熱容量に因る	10K/min.
窒素ガス	0.35～j0.4MPa（3.5～4 bar）
プロセスガス供給ライン	手動ガス流量計
コントローラ	Eurotherm 2416
プロファイルプログラム登録数	１プログラム

一番コンパクトなモデルを掲載しております。
豊富にラインナップを取り揃えておりますので、下記の関連製品ページも合わせてご覧くださいませ。

二次電池について

二次電池についてお知りになりたい方は、下記ページもご参照ください。

二次電池について

製品名	CPS Disc Centrifuge

特徴
測定原理	ディスク遠心式
測定範囲	0.01～40μm （粒子密度に依存）
最大遠心力	600～12,000 rpm (Model DC12000) 600～18,000 rpm (Model DC18000) 600～24,000 rpm (Model DC24000UHR)
測定セル	ディスク式（材質：CR-39）
対応濃度
対応粘度
測定時間	3～30分（測定範囲、粒子密度に依存）
温度制御
測定光源	発光ダイオード 405nm or 470nm選択
その他
カタログのお申込み	カタログのお申込み ※同業・競業他社様につきましては、カタログ請求をご遠慮いただくようお願いいたします。

製品名	モフォロギシリーズ

特徴	全自動で粒子径と粒子形状を測定
測定原理	静的自動画像分析（乾式/湿式）
測定範囲	0.5µm – 1300µm 2.5x：8.5 µm～1300 µm（公称値） 5x：4.5 µm～520 µm（公称値） 10x：2.5 µm～260 µm（公称値） 20x：1.5 µm～130 µm（公称値） 50x：0.5 µm～50 µm（公称値）
測定量	スライドガラス4枚分
測定時間
その他	ラマンスペクトルを用いた粒子の化学情報の取得ウエットセルによる液中粒子の分析
カタログのお申込み	カタログのお申込み ※同業・競業他社様につきましては、カタログ請求をご遠慮いただくようお願いいたします。

モデル名		VSS-450-300	RVS-210	RSS-210-S
外観
特徴		・真空、N2、H2、ギ酸対応・フラックス入り/無しのはんだに対応・搬送ロボット/ローダーとの組合せ『可』・300mm角対応	・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応・フラックス入り/無しのはんだに対応・200mm角対応	・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応・毎分240k/minの高速昇温・200mm角対応
加熱プレートサイズ	WxD(mm)	320×320	210×210	210×210
有効対象物サイズ	WxDxH(mm)	300×300×50	200×200×50	200×200×50
最大到達温度		450℃	400℃	400℃
加熱方式		クロス配列IRヒーター（下部加熱）	IRヒーター（下部加熱）	IRヒーター（下部加熱）
温度制御方式		P.I.D.制御方式
プレート上面内温度差		設定温度に対して±1%以内		設定温度に対して±1%以内
プレート上面内温度差		（対象物：Φ300mmウエハ時）	（対象物：Φ200mmウエハ時）	（対象物：Φ200mmウエハ時）
最大昇温速度 ※対象物の熱容量に因る		150K/min.	120K/min	240K/min
最大降温速度 ※対象物の熱容量に因る		90K/min（T=450℃>200℃） 60K/min（T=200℃>100℃）	120K/min（T=400℃>200℃） —	120K/min（T=400℃>200℃） —
チャンバー真空耐久度		0.1 Pa（10^-3hPa）
プロセスガス供給ライン		マスフローコントローラ×1（最大流量：5nlm）
コントローラ		タッチパネルコントローラSIMATIC®TP-700
プロファイルプログラム登録数		最大：50プログラム
プログラムステップ数		最大：50ステップ
チャンバー冷却方式		ウォータージャケット方式
加熱プレート冷却方式		水冷/空冷（共用可）
装置サイズ	WxDxH(mm)	550x690x830	670x544x320	430x295x290
装置重量	(kg)	約105kg	約45kg	約22kg
電源仕様		三相200V・40A	三相200V・25A	三相200V・16A
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置　装置オプション
上部IRヒーターモジュール	標準	○ （電源仕様：三相200V、80A）	—
上部IRヒーターモジュール	セパレート用石英ガラス板	○	—
チャンバー高さ		○（120mm）	チャンバー高さ80mm	チャンバー高さ80mm
最大到達温度		650℃		最大到達温度500℃
蓋付きグラファイト製円筒アダプタ		—	—
グラファイト製プレート	標準	—	—
	PyC浸潤	—	—
	SiCコーティング	—	—
ダブルチャンバー		—	—
石英ガラス製チャンバー	標準	—	—
石英ガラス製チャンバー	高真空対応	—	—
内蔵ギ酸還元モジュール	内蔵（標準の窒素ガスMFC共用）	○
	内蔵（標準の窒素ガスMFC別系統）	○
	外付け（標準の窒素ガスMFC別系統）	○
ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター		○
フラックストラップフィルター		—	—
高濃度水素ガス供給システム（安全対策オプション含む）		○
チャンバー蓋インターロック		（標準装備）	○
追加プロセスガス供給用マスフローコントローラ		○ （合計4系統）
追加熱電対（対象物温度測定・記録用）		○ （合計1本）	○ （合計3本）
湿度測定センサ（チャンバー内湿度測定・記録用）		○		—
酸素濃度測定センサ（チャンバー内残留酸素濃度測定・記録用）		○
3色パトライト（赤・黄・緑）		○
高真空対応チャンバー10-4Pa（10-6hPa）及びターボ分子ポンプ		○
対象物持ち上げ用リフトピン		○
外部機器通信用シリアル通信機能		○
チャンバー蓋開閉用リモート制御機能		○
真空ポンプ（真空到達圧）	低真空	○ （メンブレン式(200Pa)、耐腐食メンブレン式(200Pa)、ロータリー式(0.1Pa)、耐腐食ロータリー式(0.1Pa)、スクロール式(0.3Pa)、ドライ式(5Pa)から選択）
真空ポンプ（真空到達圧）	高真空	○ ターボ分子ポンプ（10-4Pa）
冷却機付きチラー	1.3kW	○ （5.3kW or 8.7kW）	○ （1.3kW or 2.7kW）	○ （1.3kW or 2.7kW）
ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー		○ （504x714x412mm、約50kg）

RSO-200	RSS-3X210-S	RSS-160-S	RSS-110-S

・大気、真空、N2、H2、ギ酸対応
155×155×40	620×200×50	155×155×40	105×105×40
650℃	300℃	400℃
	クロス配列IRヒーター（下部加熱）	カートリッジヒーター（下部加熱）