セミナー
| 日時 | 2020年7月8日（水）13:30～14:30 |
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| 協賛 | ブルカージャパン株式会社、株式会社マイクロサポート |
| 講演内容 |
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| 13:30-14:00 顕微赤外測定の基礎と新製品「LUMOSⅡ」の紹介 |
| 講師：ブルカージャパン株式会社 松原 智之 様 顕微赤外測定では、試料の性状に合わせた測定手法の選択が必要です。本発表では測定手法に合わせた試料の調整法について紹介します。 併せて、高速イメージング測定に対応した新型のフルオートFT-IR顕微鏡「LUMOSⅡ」の特徴と測定例について紹介します。 |
| 14:00-14:30 顕微分析に有効なマイクロサンプリング技術の紹介 |
| 講師：株式会社マイクロサポート 伊藤 慶 様 弊社では顕微分析の前処理に役立つ機器やツールを取り揃えております。 誰でも簡単に使える実体顕微鏡下でのトリミング機器の実用例やその他マイクロツールとマニピュレーターをご紹介いたします。 |
| 製品名 | CPS Disc Centrifuge |
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| 特徴 | |
| 測定原理 | ディスク遠心式 |
| 測定範囲 | 0.01～40μm （粒子密度に依存） |
| 最大遠心力 | 600～12,000 rpm (Model DC12000) 600～18,000 rpm (Model DC18000) 600～24,000 rpm (Model DC24000UHR) |
| 測定セル | ディスク式（材質：CR-39） |
| 対応濃度 | |
| 対応粘度 | |
| 測定時間 | 3～30分（測定範囲、粒子密度に依存） |
| 温度制御 | |
| 測定光源 | 発光ダイオード 405nm or 470nm選択 |
| その他 | |
| カタログのお申込み |
※同業・競業他社様につきましては、
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| 製品名 | モフォロギシリーズ |
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| 特徴 | 全自動で粒子径と粒子形状を測定 |
| 測定原理 | 静的自動画像分析（乾式/湿式） |
| 測定範囲 |
0.5µm – 1300µm 2.5x：8.5 µm～1300 µm（公称値） |
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測定量 |
スライドガラス4枚分 |
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測定時間 |
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その他 |
ラマンスペクトルを用いた粒子の化学情報の取得 |
| カタログのお申込み |
※同業・競業他社様につきましては、
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| モデル名 | VSS-450-300 | RVS-210 | RSS-210-S | |
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| 外観 |  |
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| 特徴 | ・真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・フラックス入り/無しのはんだに対応 ・搬送ロボット/ローダーとの組合せ『可』 ・300mm角対応 |
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・200mm角対応 |
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・200mm角対応 |
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| 加熱プレートサイズ | WxD(mm) | 320×320 | 210×210 | 210×210 |
| 有効対象物サイズ | WxDxH(mm) | 300×300×50 | 200×200×50 | 200×200×50 |
| 最大到達温度 | 450℃ | 400℃ | 400℃ | |
| 加熱方式 | クロス配列IRヒーター （下部加熱） |
IRヒーター（下部加熱） | IRヒーター（下部加熱） | |
| 温度制御方式 | P.I.D.制御方式 | |||
| プレート上面内温度差 | 設定温度に対して±1%以内 | 設定温度に対して±1%以内 | ||
| （対象物：Φ300mmウエハ時） | （対象物：Φ200mmウエハ時） | （対象物：Φ200mmウエハ時） | ||
| 最大昇温速度 ※対象物の熱容量に因る |
150K/min. | 120K/min | 240K/min | |
| 最大降温速度 ※対象物の熱容量に因る |
90K/min（T=450℃>200℃） 60K/min（T=200℃>100℃） |
120K/min（T=400℃>200℃） — |
120K/min（T=400℃>200℃） — |
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| チャンバー真空耐久度 | 0.1 Pa（10-3hPa） | |||
| プロセスガス供給ライン | マスフローコントローラ×1（最大流量：5nlm） | |||
| コントローラ | タッチパネルコントローラSIMATIC®TP-700 | |||
| プロファイルプログラム登録数 | 最大：50プログラム | |||
| プログラムステップ数 | 最大：50ステップ | |||
| チャンバー冷却方式 | ウォータージャケット方式 | |||
| 加熱プレート冷却方式 | 水冷/空冷（共用可） | |||
| 装置サイズ | WxDxH(mm) | 550x690x830 | 670x544x320 | 430x295x290 |
| 装置重量 | (kg) | 約105kg | 約45kg | 約22kg |
| 電源仕様 | 三相200V・40A | 三相200V・25A | 三相200V・16A | |
| ギ酸・水素還元両対応 卓上型真空はんだリフロー装置 装置オプション | ||||
| 上部IRヒーター モジュール |
標準 | ○ （電源仕様：三相200V、80A） |
— | |
| セパレート用石英ガラス板 | ○ | — | ||
| チャンバー高さ | ○（120mm） | チャンバー高さ80mm | チャンバー高さ80mm | |
| 最大到達温度 | 650℃ | 最大到達温度500℃ | ||
| 蓋付きグラファイト製円筒アダプタ | — | — | ||
| グラファイト製 プレート |
標準 | — | — | |
| PyC浸潤 | — | — | ||
| SiCコーティング | — | — | ||
| ダブルチャンバー | — | — | ||
| 石英ガラス製 チャンバー |
標準 | — | — | |
| 高真空対応 | — | — | ||
| 内蔵ギ酸還元 モジュール |
内蔵 （標準の窒素ガスMFC共用） |
○ | ||
| 内蔵 （標準の窒素ガスMFC別系統） |
○ | |||
| 外付け （標準の窒素ガスMFC別系統） |
○ | |||
| ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター | ○ | |||
| フラックストラップフィルター | — | — | ||
| 高濃度水素ガス供給システム （安全対策オプション含む） |
○ | |||
| チャンバー蓋インターロック | （標準装備） | ○ | ||
| 追加プロセスガス供給用マスフローコントローラ | ○ （合計4系統） |
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| 追加熱電対 （対象物温度測定・記録用） |
○ （合計1本） |
○ （合計3本） |
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| 湿度測定センサ （チャンバー内湿度測定・記録用） |
○ | — | ||
| 酸素濃度測定センサ （チャンバー内残留酸素濃度測定・記録用） |
○ | |||
| 3色パトライト（赤・黄・緑） | ○ | |||
| 高真空対応チャンバー10-4Pa（10-6hPa） 及びターボ分子ポンプ |
○ | |||
| 対象物持ち上げ用リフトピン | ○ | |||
| 外部機器通信用シリアル通信機能 | ○ | |||
| チャンバー蓋開閉用リモート制御機能 | ○ | |||
| 真空ポンプ （真空到達圧） |
低真空 | ○ （メンブレン式(200Pa)、耐腐食メンブレン式(200Pa)、ロータリー式(0.1Pa)、耐腐食ロータリー式(0.1Pa)、スクロール式(0.3Pa)、ドライ式(5Pa)から選択） |
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| 高真空 | ○ ターボ分子ポンプ（10-4Pa） |
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| 冷却機付きチラー | 1.3kW | ○ （5.3kW or 8.7kW） |
○ （1.3kW or 2.7kW） |
○ （1.3kW or 2.7kW） |
| ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー | ○ （504x714x412mm、約50kg） |
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| RSO-200 | RSS-3X210-S | RSS-160-S | RSS-110-S |
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| ・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 | |||
| 155×155×40 | 620×200×50 | 155×155×40 | 105×105×40 |
| 650℃ | 300℃ | 400℃ | |
| クロス配列IRヒーター （下部加熱） |
カートリッジヒーター（下部加熱） | ||
