出展
JASIS関西2025に出展いたします。
| 会 期 | 2025年1月29日（水）～31日（金） |
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| 場 所 |
グランキューブ大阪（大阪府国立会議場） |
| 主催 |
一般社団法人日本分析機器工業会／一般社団法人日本科学機器協会 |
| ブース番号 |
C-03 |
| ご紹介製品 |
▼アポクロマート実体顕微鏡 Ivesta3 ／ ライカマイクロシステムズ株式会社 ▼電動精密回転式ミクロトーム HistoCore NANOCUT R ／ ライカマイクロシステムズ株式会社 ▼表面・界面物性解析装置 SAICAS ／ ダイプラ・ウィンテス株式会社 ▼光波動場三次元顕微鏡 MINUK ／ 大塚電子株式会社 ▼スマート膜厚計 SM-100P/SM-100S ／ ヤマト科学株式会社 ▼２次元色彩計 PPLB ／ 株式会社パパラボ ▼移動型 有害ガス除去装置 TOGA-M01D ／ 株式会社TOGA
ご紹介製品情報を掲載したカタログのご用意がございます。 |
| 製品名 | CPS Disc Centrifuge |
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| 特徴 | |
| 測定原理 | ディスク遠心式 |
| 測定範囲 | 0.01～40μm （粒子密度に依存） |
| 最大遠心力 | 600～12,000 rpm (Model DC12000) 600～18,000 rpm (Model DC18000) 600～24,000 rpm (Model DC24000UHR) |
| 測定セル | ディスク式（材質：CR-39） |
| 対応濃度 | |
| 対応粘度 | |
| 測定時間 | 3～30分（測定範囲、粒子密度に依存） |
| 温度制御 | |
| 測定光源 | 発光ダイオード 405nm or 470nm選択 |
| その他 | |
| カタログのお申込み |
※同業・競業他社様につきましては、
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| 製品名 | モフォロギシリーズ |
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| 特徴 | 全自動で粒子径と粒子形状を測定 |
| 測定原理 | 静的自動画像分析（乾式/湿式） |
| 測定範囲 |
0.5µm – 1300µm 2.5x：8.5 µm～1300 µm（公称値） |
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測定量 |
スライドガラス4枚分 |
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測定時間 |
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その他 |
ラマンスペクトルを用いた粒子の化学情報の取得 |
| カタログのお申込み |
※同業・競業他社様につきましては、
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| モデル名 | VSS-450-300 | RVS-210 | RSS-210-S | |
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| 外観 |  |
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| 特徴 | ・真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・フラックス入り/無しのはんだに対応 ・搬送ロボット/ローダーとの組合せ『可』 ・300mm角対応 |
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・200mm角対応 |
・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 ・200mm角対応 |
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| 加熱プレートサイズ | WxD(mm) | 320×320 | 210×210 | 210×210 |
| 有効対象物サイズ | WxDxH(mm) | 300×300×50 | 200×200×50 | 200×200×50 |
| 最大到達温度 | 450℃ | 400℃ | 400℃ | |
| 加熱方式 | クロス配列IRヒーター （下部加熱） |
IRヒーター（下部加熱） | IRヒーター（下部加熱） | |
| 温度制御方式 | P.I.D.制御方式 | |||
| プレート上面内温度差 | 設定温度に対して±1%以内 | 設定温度に対して±1%以内 | ||
| （対象物：Φ300mmウエハ時） | （対象物：Φ200mmウエハ時） | （対象物：Φ200mmウエハ時） | ||
| 最大昇温速度 ※対象物の熱容量に因る |
150K/min. | 120K/min | 240K/min | |
| 最大降温速度 ※対象物の熱容量に因る |
90K/min（T=450℃>200℃） 60K/min（T=200℃>100℃） |
120K/min（T=400℃>200℃） — |
120K/min（T=400℃>200℃） — |
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| チャンバー真空耐久度 | 0.1 Pa（10-3hPa） | |||
| プロセスガス供給ライン | マスフローコントローラ×1（最大流量：5nlm） | |||
| コントローラ | タッチパネルコントローラSIMATIC®TP-700 | |||
| プロファイルプログラム登録数 | 最大：50プログラム | |||
| プログラムステップ数 | 最大：50ステップ | |||
| チャンバー冷却方式 | ウォータージャケット方式 | |||
| 加熱プレート冷却方式 | 水冷/空冷（共用可） | |||
| 装置サイズ | WxDxH(mm) | 550x690x830 | 670x544x320 | 430x295x290 |
| 装置重量 | (kg) | 約105kg | 約45kg | 約22kg |
| 電源仕様 | 三相200V・40A | 三相200V・25A | 三相200V・16A | |
| ギ酸・水素還元両対応 卓上型真空はんだリフロー装置 装置オプション | ||||
| 上部IRヒーター モジュール |
標準 | ○ （電源仕様：三相200V、80A） |
— | |
| セパレート用石英ガラス板 | ○ | — | ||
| チャンバー高さ | ○（120mm） | チャンバー高さ80mm | チャンバー高さ80mm | |
| 最大到達温度 | 650℃ | 最大到達温度500℃ | ||
| 蓋付きグラファイト製円筒アダプタ | — | — | ||
| グラファイト製 プレート |
標準 | — | — | |
| PyC浸潤 | — | — | ||
| SiCコーティング | — | — | ||
| ダブルチャンバー | — | — | ||
| 石英ガラス製 チャンバー |
標準 | — | — | |
| 高真空対応 | — | — | ||
| 内蔵ギ酸還元 モジュール |
内蔵 （標準の窒素ガスMFC共用） |
○ | ||
| 内蔵 （標準の窒素ガスMFC別系統） |
○ | |||
| 外付け （標準の窒素ガスMFC別系統） |
○ | |||
| ギ酸ガス除去用ケミカルフィルター | ○ | |||
| フラックストラップフィルター | — | — | ||
| 高濃度水素ガス供給システム （安全対策オプション含む） |
○ | |||
| チャンバー蓋インターロック | （標準装備） | ○ | ||
| 追加プロセスガス供給用マスフローコントローラ | ○ （合計4系統） |
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| 追加熱電対 （対象物温度測定・記録用） |
○ （合計1本） |
○ （合計3本） |
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| 湿度測定センサ （チャンバー内湿度測定・記録用） |
○ | — | ||
| 酸素濃度測定センサ （チャンバー内残留酸素濃度測定・記録用） |
○ | |||
| 3色パトライト（赤・黄・緑） | ○ | |||
| 高真空対応チャンバー10-4Pa（10-6hPa） 及びターボ分子ポンプ |
○ | |||
| 対象物持ち上げ用リフトピン | ○ | |||
| 外部機器通信用シリアル通信機能 | ○ | |||
| チャンバー蓋開閉用リモート制御機能 | ○ | |||
| 真空ポンプ （真空到達圧） |
低真空 | ○ （メンブレン式(200Pa)、耐腐食メンブレン式(200Pa)、ロータリー式(0.1Pa)、耐腐食ロータリー式(0.1Pa)、スクロール式(0.3Pa)、ドライ式(5Pa)から選択） |
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| 高真空 | ○ ターボ分子ポンプ（10-4Pa） |
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| 冷却機付きチラー | 1.3kW | ○ （5.3kW or 8.7kW） |
○ （1.3kW or 2.7kW） |
○ （1.3kW or 2.7kW） |
| ユニバーサル・ヒート・エクスチェンジャー | ○ （504x714x412mm、約50kg） |
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| RSO-200 | RSS-3X210-S | RSS-160-S | RSS-110-S |
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| ・大気、真空、N2、H2、ギ酸 対応 | |||
| 155×155×40 | 620×200×50 | 155×155×40 | 105×105×40 |
| 650℃ | 300℃ | 400℃ | |
| クロス配列IRヒーター （下部加熱） |
カートリッジヒーター（下部加熱） | ||
