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落下式急速焼成炉タワーキルン
自由落下により急速な粉体焼成が可能!
 
1〜20秒の急速な粉体焼成!
トンネル炉と比べて設置スペース大幅削減!


セラミックスやガラス粉体の熱処理に。
落下式による焼成炉で、粉体の焼成が、1〜20秒と高速で行えます。
また、設置面積も、従来のトンネル式に比べて大幅に削減することができます。
落下式急速焼成炉タワーキルン
 
 
特長
●急速焼成
●クリーン焼成
●省エネ(省エネ比率:従来炉の1/3以下)
●均一焼成
●繰り返し焼成が容易
 
落下式急速焼成炉と従来炉の比較
  落下式急速焼成炉 トンネル炉
焼成所要時間 1〜20秒 15時間程度
炉立ち上げ時間 約1時間 2〜3日
坩堝、トレー、台板 不要
炉の操作性 容易 搬送系が複雑
粉の充填、取り出し 容易 人力、ロボット操作
品質の判定 数分後に可能 半日〜1日程度
処理品加熱 粉を直接加熱 容器を加熱
コンタミ 汚染源なし 容器からの汚染
設備面積 極小
 
用途
・粉体の合成
・急熱急冷処理
・繰り返し加熱処理
・乾燥
・粒子の表面改質
・高純度化処理 など
 
応用分野
●誘電体粉末
●二次電池材料粉末
●フェライト粉末
●ガラス粉末
●蛍光体粉末
●金属粉末
●顔料、食品など
 
標準仕様
  型式 最高温度 加熱感本数 処理能力
試験炉 TFF50-3000 1300℃ 1管式 1〜2kg/h
生産炉 TFF70-5000 1300℃、1450℃ 1管式 5〜10kg/h
生産炉 TFF70-5000×2 1300℃、1450℃ 2管式 10〜20kg/h
※処理能力は処理品の性状により変わりますので参考値です。
 
 
 
 
 
 
 
 
 
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